GB/T 12690.7-2021 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第7部分：硅量的测定

　　ICS 77 . 120 . 99 CCS H 14

　　中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准

　　GB/T 12690 . 7—2021代替 GB/T 12690.7—2003

　　稀土金属及其氧化物中非稀土杂质

　　化学分析方法

　　第 7 部分：硅量的测定

　　Chemicalanalysismethodsfornon-rareearthimpuritiesofrareearthmetalsand

　　theiroxides—part7：Determinationofsiliconcontent

　　2021-10-1 1 发布 2022-05-01 实施

　　国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会

　　发

　　布

　　GB/T 12690 . 7—202 1

　　前 言

　　本文件按照 GB/T 1 . 1—2020《标准化工作导则 第 1 部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。

　　本文件是 GB/T 12690《稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法》的第 7 部分。 GB/T 12690已经发布了以下部分：

　　— 第 1 部分：碳、硫量的测定 高频-红外吸收法;

　　— 第 2 部分：稀土氧化物中灼减量的测定 重量法;

　　— 第 3 部分：稀土氧化物中水分量的测定 重量法;

　　— 第 4 部分：氧、氮量的测定 脉冲-红外吸收法和脉冲-热导法;

　　— 第 5 部分：钴、锰、铅、镍、铜、锌、铝、铬、镁、镉、钒、铁量的测定;

　　— 第 6 部分：铁量的测定 硫氰酸钾、1,10-二氮杂菲分光光度法;

　　— 第 7 部分：硅量的测定;

　　— 第 8 部分：钠量的测定;

　　— 第 9 部分：氯量的测定 硝酸银比浊法;

　　— 第 10 部分：磷量的测定 钼蓝分光光度法;

　　— 第 11 部分：镁量的测定 火焰原子吸收光谱法;

　　— 第 12 部分：钍量的测定 偶氮胂 Ⅲ分光光度法和电感耦合等离子体质谱法;

　　— 第 13 部分：钼、钨量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法和电感耦合等离子体质谱法;

　　— 第 14 部分：钛量的测定;

　　— 第 15 部分：钙量的测定;

　　— 第 16 部分：氟量的测定 离子选择性电极法;

　　— 第 17 部分：稀土金属中铌、钽量的测定;

　　— 第 18 部分：锆量的测定;

　　— 第 19 部分：砷、汞量的测定。

　　本文件代替 GB/T 12690 . 7—2003《稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 硅量的测定钼蓝分光光度法》，与 GB/T 12690 . 7—2003 相比，除结构调整和编辑性改动外，主要技术变化如下：

　　a ) 更改了文件的适用范围(见第 1 章，2003 年版的第 1 章);

　　b ) 增加了“规范性引用文件”“术语和定义”两章(见第 2 章、第 3 章);

　　c ) 更改了钼蓝分光光度法原理(见 4 .1 , 2003 年版的第 2 章);

　　d) 更改了钼蓝分光光度法中水和二氧化硅标准贮存溶液的要求(见 4.2 的引导语、4.2. 10 , 2003年版的 3 . 10、3 . 12) ;

　　e) 删除了钼蓝分光光度法中盐酸的要求(见 2003 年版的 3.3) ;

　　f) 更改了钼蓝分光光度法中仪器设备的要求(见 4.3 , 2003 年版的第 4 章);

　　g) 更改了钼蓝分光光度法中稀土氧化物样品前处理的要求(见 4.4.1 , 2003 年版的 5.1) ;

　　h) 增加了钼蓝分光光度法中试料的称取、定容及分取要求(见表 1、表 2) ;

　　i) 更改了钼蓝分光光度法中试料溶解的要求(见 4.5.4 , 2003 年版的 6.4.1、6.4.2、6.4.3、6.4.4) ;

　　j) 更改了钼蓝分光光度法中抗坏血酸溶液的浓度、用量及硅钼杂多酸形成放置时间、显色时间(见 4 . 5 . 5 , 2003 年版的 6 . 4 . 5) ;

　　k ) 更改了钼蓝分光光度法中显色波长(见 4 .5 .6、4 .5 .7 .2 , 2003 年版的 6 .4 .6、6 .5 .2) ;

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　　l) 增加了钼蓝分光光度法中数值修约要求(见 4.6) ;

　　m) 更改了钼蓝分光光度法中精密度的要求(见 4.7 , 2003 年版的第 8 章);

　　n) 增加了“电感耦合等离子体原子发射光谱法”一章(见第 5 章);

　　o ) 删除了“质量保证和控制”一章(见 2003 年版的第 9 章)。

　　请注意本文件的某些内容可能涉及专利。 本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

　　本文件由全国稀土标准化技术委员会(SAC/TC 229)提出并归口 。

　　本文件起草单位：包头稀土研究院、赣州有色冶金研究所、淄博加华新材料资源有限公司、中国有色桂林矿产地质研究院有限公司、乐山有研稀土新材料有限公司、赣州湛海新材料科技有限公司、内蒙古稀土产品质量监督检验研究院、福建省长汀金龙稀土有限公司、虔东稀土集团股份有限公司、广东省科学院工业分析检测中心、钢研纳克检测技术股份有限公司、江苏金石稀土有限公司、中国科学院海西研究院厦门稀土材料研究所、国标(北京)检验认证有限公司。

　　本文件主要起草人：常诚、杜梅、周凯红、杨学正、刘晓杰、王东杰、方琦琦、刘延谟、卢美玲、杨宏博、黄洋成、王淼、胡贞贞、肖银、罗威、解一鸣、王金凤、温斌、徐思婷、陆翌欣、刘志勇、宋立军、邓楠。

　　本文件及其所代替文件的历次版本发布情况为：

　　— 1988 年首次发布为 GB/T 8762 . 3—1988 , 1990 年第一次修订为 GB/T 12690 . 22—1990 ;

　　— 2003 年第二次修订为 GB/T 12690 . 7—2003 时，并入了 GB/T 12690 . 23—1990《稀土金属及其氧化物化学分析方法 钼蓝分光光度法测定酸溶硅量》的内容(GB/T 12690 . 23—1990 的历次版本发布情况为：GB/T 11074 . 5—1989、GB/T 12690 . 23—1990) ;

　　— 本次为第三次修订。

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　　引 言

　　在稀土产品化学成分分析领域，我国已经建立了针对稀土总量、非稀土杂质、稀土杂质等检测的较为全面的标准体系。 本标准系列 GB/T 12690《稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法》以原

　　标准 GB/T 12690.12~.26—1990《稀土金属及其氧化物化学分析方法》为基础，合并了 GB/T 8762.3 —

　　1988《荧光级氧化钇中酸溶性二氧化硅量测定 钼蓝分光光度法》、GB/T 8762 . 4—1988《荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量测定 发射光谱法》、GB/T 8762 . 6—1988《荧光级氧化铕中氧化

　　铅、氧化镍、氧化铁和氧化铜量测定 发射光谱法》、GB/T 11074.3~.7—1989《氧化钐化学分析方法》等

　　标准，最后形成对所有稀土金属及其氧化物中非稀土杂质的综合分析方法标准。 经修订的方法标准引用了先进的检测方法，并基本覆盖了全部稀土金属及其稀土氧化物基体。 本系列方法标准的建立为稀土金属及其氧化物中非稀土杂质含量的测定提供了快捷、准确的方法规范，具有良好的操作性。

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　　稀土金属及其氧化物中非稀土杂质

　　化学分析方法

　　第 7 部分：硅量的测定

　　1 范围

　　本文件规定了稀土氧化物中全硅含量、稀土金属及其氧化物中酸溶硅含量的测定方法。

　　本文件适用于稀土金属及其氧化物中硅量的测定，包含钼蓝分光光度法(方法 1)和电感耦合等离子体原子发射光谱法(方法 2) 。钼蓝分光光度法(方法 1)适用于稀土氧化物中全硅含量及稀土金属及

　　其氧化物中酸溶硅含量的测定，测定范围(质量分数)：0.001 0%~0.20%;电感耦合等离子体原子发射光谱法(方法 2)适用于稀土金属及其氧化物中酸溶硅含量的测定，测定范围(质量分数)：0. 010% ~

　　0 . 20% 。

　　当本文件 2 个方法的分析范围出现重叠时，宜首选方法 1 作为仲裁方法。

　　2 规范性引用文件

　　下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。 其中，注 日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件;不注 日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

　　GB/T 8170 数值修约规则与极限数值的表示和判定

　　3 术语和定义

　　下列术语和定义适用于本文件。

　　3.1

　　全硅含量 fullsiliconcontent

　　稀土氧化物中硅元素含量。

　　注 ：以二氧化硅质量分数计。

　　3.2

　　酸溶硅含量 acidsolublesiliconcontent

　　稀土金属及氧化物中可溶解于酸溶液中的硅元素含量。

　　注：稀土金属以硅质量分数计;稀土氧化物以二氧化硅质量分数计。

　　4 钼蓝分光光度法(方法 1)

　　4 . 1 方法原理

　　测定稀土氧化物中全硅含量时，试料用无水碳酸钠-硼酸混合熔剂熔融，稀硝酸浸出;测定稀土金属

　　及其氧化物中酸溶硅含量时，试料用稀硝酸溶解。在 0. 12 mol/L~0.25 mol/L 的酸性介质中，硅与钼

　　酸铵生成硅钼杂多酸，用草-硫混酸分解磷、砷杂多酸，用抗坏血酸还原硅钼杂多酸为蓝色低价络合物，

　　于分光光度计波长 830 nm 处测量其吸光度。

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　　4 . 2 试剂

　　除非另有说明，在分析中仅使用确认为优级纯及以上试剂和蒸馏水或去离子水或相当纯度的水，液体试剂均保存于塑料瓶中。

　　4.2. 1 过氧化氢(30%)。

　　4 . 2 . 2 硝酸溶液(1+2) 。

　　4 . 2 . 3 硫酸溶液(1+5) 。

　　4 . 2 . 4 氨水(1+3) , MOS 级 。

　　4.2.5 抗坏血酸溶液(50 g/L) ,用时配制。

　　4.2.6 草-硫混酸溶液：1.0 g 草酸溶于 100 mL硫酸溶液(4.2.3)中。

　　4.2.7 钼酸铵溶液(50 g/L)。

　　4.2.8 对硝基酚溶液(1 g/L)。

　　4.2.9 混合熔剂：称取 2 g无水碳酸钠加 1 g 硼酸，研匀。

　　4.2. 10 二氧化硅标准贮存溶液：称取 0.100 0 g 二氧化硅(狑>99.9% , 120 ℃烘干 2 h) ,置于铂坩埚中，加入 5 g无水碳酸钠，于 950 ℃ ~1 000 ℃熔融至红色透明。稍冷后用热水浸出，冷却。移入 1 000 mL容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 100 μg 二氧化硅。

　　4 .2 . 1 1 二氧化硅标准溶液：移取 5 .00 mL二氧化硅标准贮存溶液(4 .2 .10)于 100 mL容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 5 μg 二氧化硅。

　　4 . 3 仪器设备

　　可见光分光光度计。

　　在仪器最佳工作条件下，凡达到下列指标者均可使用：

　　— 波长 830 nm 处光谱带宽不大于 10 nm,波长测量精确至 ±2 nm;

　　— 精密度：用校准曲线最高浓度溶液测量 10 次吸光度，相对标准偏差不大于 0.3%。

　　4 . 4 样品前处理

　　4.4. 1 稀土氧化物样品于 105 ℃烘 1 h后，置于干燥器中，冷却至室温。

　　4 . 4 . 2 稀土金属样品需去掉表面氧化层。 取样后，立即称量。

　　4 . 5 试验步骤

　　4 . 5 . 1 试料

　　按表 1 称取稀土氧化物样品(4.4.1) ,精确至 0.000 1 g。

　　按表 2 称取稀土金属样品(4.4.2) ,精确至 0.000 1 g。

　　表 1 稀土氧化物称样量、定容体积及分取体积

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　　表 2 稀土金属称样量、定容体积、稀释倍数及分取体积

　　4 . 5 . 2 平行试验

　　平行做两份试验。

　　4 . 5 . 3 空白试验

　　随同试料做空白试验，制得空白试液，所用试剂应取自同一试剂瓶。

　　4 . 5 . 4 试料的溶解

　　4 . 5 . 4 . 1 测定酸溶硅含量试料的溶解

　　4.5.4. 1 . 1 当试料(4.5.1)为氧化铈时，将试料置于 100 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 10 mL 硝酸溶液(4.2.2)及 5 mL过氧化氢(4.2.1) ,于室温下放置 5 min,低温(90 ℃ ~99 ℃)加热至溶解完全并蒸至溶液呈黄色，不再有小气泡出现，加入 5 mL 硝酸溶液，冷却。按表 1 移入相应容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。

　　4.5.4. 1 .2 当试料(4.5.1)为稀土金属或除氧化铈外的稀土氧化物时，将试料置于 100 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 10 mL硝酸溶液(4.2.2) ,低温(90 ℃ ~99 ℃)加热至溶解完全，冷却。稀土氧化物试料按表 1、稀土金属试料按表 2 分别移入相应容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。

　　4 . 5 . 4 . 2 测定全硅含量试料的溶解

　　4.5.4.2. 1 当试料(4.5. 1)为氧化铈时，将试料置于盛有 3.00 g 混合熔剂(4.2. 9)的铂坩埚中，搅匀，以

　　1.00 g 混合熔剂覆盖，盖上铂盖，于 950 ℃ ~1 000 ℃熔融 15 min后(中间取出摇动一次)，取出冷却，将铂坩埚及铂盖置于聚四氟乙烯烧杯中，加 10 mL 水，20 mL 硝酸溶液(4. 2. 2) , 3 滴 ~ 5 滴过氧化氢(4.2.1) , 低温(90 ℃ ~ 99 ℃) 加热浸取，洗净铂坩埚，取出。加 1 mL~ 2 mL 过氧化氢助溶，低温(90 ℃ ~99 ℃ ) 至溶解完全并蒸至溶液呈黄色，不再有小气泡出现，加入 5 mL 硝酸溶液，按表 1 移入相应容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。

　　4.5.4.2.2 当试料(4.5.1)为稀土金属或除氧化铈外的稀土氧化物时，将试料置于盛有 3.00 g 混合熔剂(4.2.9)的铂坩埚中，搅匀，以 1.00 g 混合熔剂覆盖，盖上铂盖，于 950 ℃ ~1 000 ℃熔融 15 min后(中间取出摇动一次)，取出冷却，将铂坩埚及铂盖置于聚四氟乙烯烧杯中，加 10 mL 水，20 mL 硝酸溶液(4.2.2) , 低温(90 ℃ ~99 ℃)加热浸取，洗净坩埚，取出，低温(90 ℃ ~99 ℃)加热至溶解完全，冷却。稀土氧化物试料按表 1、稀土金属试料按表 2 分别移入相应容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。

　　4 . 5 . 5 显色

　　显色液：根据试料中二氧化硅含量范围，经 4 . 5 . 4 制取的稀土氧化物试料按表 1、经 4 . 5 . 4 制取的稀

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　　土金属试料按表 2 对应稀释并分取试液于 25 mL 比色管中，加入 1 滴对硝基酚溶液(4 .2 .8) ,用氨水(4 .2 .4) 调溶液至黄色，加入 0 .4 mL硫酸溶液(4 .2 .3 ) ,混匀。加入 2 .5mL 钼酸铵溶液(4 .2 .7) ,混匀，在不低于 20 ℃的室温下放置 15 min。加入 5 mL草-硫混酸溶液(4 .2 .6 ) ,混匀，加入 0 .5 mL 抗坏血酸溶液(4 .2 .5) ,用水稀释至刻度，混匀，放置 15 min。

　　4 . 5 . 6 测定

　　移取 4.5.5 制取的部分显色液于 3 cm 比色皿中，以水为参比，于分光光度计波长 830 nm 处测量其

　　吸光度。 从显色液的吸光度中减去随同试料空白试液的吸光度(如果试料溶液有颜色，还需减去与被测溶液同等浓度的有颜色稀土试料溶液的吸光度)，获得净吸光度，再以净吸光度从工作曲线上查出相应的二氧化硅含量。

　　4 . 5 . 7 工作曲线的绘制与测定

　　4.5.7. 1 依次移取 0 mL、0.40 mL、0.80 mL、1.20 mL、2.00 mL、3.00 mL、4.00 mL 二氧化硅标准溶液(4 .2 .11) ,置于一组 25 mL 比色管中，用水稀释至 10 mL,加入 1 滴对硝基酚溶液(4 .2 .8) ,用氨水(4 .2 .4)调溶液至黄色，加入 0 .4 mL硫酸溶液(4 .2 .3 ) ,混匀。加入 2 .5 mL 钼酸铵溶液(4 .2 .7) ,混匀，在不低于20 ℃的室温下放置 15 min。加入 5 mL 草-硫混酸溶液(4 . 2 . 6) ,混匀，加入 0 . 5 mL 抗坏血酸溶液(4 .2 .5) , 用水稀释至刻度，混匀，放置 15 min。

　　4 .5 .7 .2 分别移取 4 .5 .7 .1 制取的部分溶液于 3 cm 比色皿中，以水为参比，于分光光度计波长 830 nm处测量其吸光度，并减去试剂空 白 的吸光度。 以二氧化硅含量为横坐标，吸光度为纵坐标绘制工作曲线。

　　4 . 6 试验数据处理

　　硅的含量以质量分数 ∞1 计，按公式(1)计算：

　　式中：

　　∞1 — 硅的质量分数;

　　k — 换算系数，当计算二氧化硅的质量分数时 k=1,当计算硅的质量分数时 k=0.467 5 ;

　　m1 — 自工作曲线上查得的二氧化硅含量，单位为微克(μg) ;

　　V — 试料溶液总体积，单位为毫升(mL) ;

　　n — 试料溶液的稀释倍数;

　　m — 试料的质量，单位为克(g) ;

　　V1 — 分取试料溶液体积，单位为毫升(mL)。

　　计算结果保留 2 位有效数字。 数值修约按照 GB/T 8170 的规定执行。

　　4 . 7 精密度

　　4 . 7 . 1 重复性

　　在重复性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值不大于重复性限(r)，以大于重复性限的情况不超过 5%为前提，重复性限按表 3 数据采用线性内插法或外延法求得。

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　　表 3 重复性限(方法 1)

　　4 . 7 . 2 再现性

　　在再现性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值不大于再现性限(R)，以大于再现性限的情

　　况不超过 5%为前提，再现性限按表 4 数据采用线性内插法或外延法求得。

　　表 4 再现性限(方法 1)

　　5 电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-OES，方法 2)

　　5 . 1 方法原理

　　试料用稀硝酸溶解，在稀酸介质中，于电感耦合等离子体原子发射光谱仪选定波长处测定硅的发射强度，通过工作曲线计算硅的含量。 以基体匹配法校正基体对测定的影响。

　　5 . 2 试剂

　　除非另有说明，在分析中仅使用确认为优级纯及以上试剂和蒸馏水或去离子水或相当纯度的水，液体试剂均保存于塑料瓶中。

　　5.2. 1 过氧化氢(30%)。

　　5 . 2 . 2 硝酸溶液(1+1) 。

　　5.2.3 二氧化硅标准贮存溶液：准确称取 0.500 0 g 经 120 ℃烘至恒重的二氧化硅[狑(SiO2) ≥99.9%] ,置于铂坩埚中，加入 5.0 g 优级纯无水碳酸钠，于 950 ℃ ~1 000 ℃熔融至红色透明。稍冷后于 200 mL聚四氟乙烯烧杯中用热水浸取，加热至溶液澄清，冷却后移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1mL含 1 mg 二氧化硅。

　　5 .2 .4 二氧化硅标准溶液：移取 10 .00 mL硅标准贮存溶液(5 .2 .3 )于 100 mL 容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 100 μg 二氧化硅。

　　5.2.5 氧化镧基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化镧[狑( La2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,

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　　狑(REO) ≥99.5% , 狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化镧。

　　5.2.6 氧化铈基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃ 灼烧 1 h 的氧化铈[狑 ( CeO2/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5% , 狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入 100 mL硝酸溶液(5.2.2) ,滴加过氧化氢(5.2.1)助溶。加热至溶解完全，并赶尽气泡，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化铈。

　　5.2.7 氧化镨基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化镨[狑(Pr6 O11/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化镨。

　　5.2.8 氧化钕基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化钕[狑( Nd2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化钕。

　　5.2.9 氧化钐基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化钐[狑(Sm2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化钐。

　　5.2. 10 氧化铕基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化铕[狑(Eu2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化铕。

　　5.2. 1 1 氧化钆基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化钆[狑(Gd2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化钆。

　　5.2. 12 氧化铽基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化铽[狑(Tb4 O7/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入 100 mL硝酸溶液(5.2.2) ,滴加过氧化氢(5.2.1)助溶。加热至溶解完全，并赶尽气泡，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化铽。

　　5.2. 13 氧化镝基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化镝[狑(Dy2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化镝。

　　5.2. 14 氧化钬基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化钬[狑( Ho2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化钬。

　　5.2. 15 氧化铒基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化铒[狑(Er2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化铒。

　　GB/T 12690 . 7—202 1

　　5.2. 16 氧化铥基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化铥[狑(Tm2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.002 0%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化铥。

　　5.2. 17 氧化镱基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化镱[狑(Yb2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.0020%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL 水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化镱。

　　5.2. 18 氧化镥基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化镥[狑( Lu2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.0020%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL 水，缓慢加入 100 mL硝酸溶液(5.2.2) ,滴加过氧化氢(5.2.1)助溶。加热至溶解完全，并赶尽气泡，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化镥。

　　5.2. 19 氧化钇基体溶液：称取 25. 000 g 经 950 ℃灼烧 1 h 的氧化钇[狑(Y2 O3/REO) ≥ 99. 99% ,狑(REO) ≥99.5%,狑(SiO2)<0.0020%],置于 500 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加入 100 mL 水，缓慢加入100 mL硝酸溶液(5.2.2)加热至溶解完全，取下冷却至室温。溶液移入 500 mL 容量瓶中，以水稀释至刻度，混匀。此溶液 1 mL含 50 mg 氧化钇。

　　5.2.20 氩气(体积分数不小于 99.99%)。

　　5 . 3 仪器设备

　　电感耦合等离子体原子发射光谱仪。

　　在仪器最佳工作条件下，凡达到下列指标者均可使用：

　　— 分辨率小于 0.006 nm(200 nm 处)，波长范围 200 nm~800 nm;

　　— 精密度：用 1.0 μg/mL 的铜标准溶液测量发射强度 10 次，其相对标准偏差不超过 2.0%。

　　5 . 4 样品前处理

　　5.4. 1 稀土氧化物样品于 105 ℃烘 1 h后，置于干燥器中，冷却至室温。

　　5 . 4 . 2 稀土金属样品需去掉表面氧化层。 取样后，立即称量。

　　5 . 5 试验步骤

　　5 . 5 . 1 试料

　　稀土氧化物样品(5.4.1)称取 0.50 g,精确至 0.000 1 g。

　　稀土金属样品(5.4.2)称取 0.50f(f为换算系数，不同元素换算系数见表 5)g,精确至 0.000 1 g。

　　表 5 换算系数表

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　　5 . 5 . 2 平行试验

　　平行做两份试验。

　　5 . 5 . 3 空白试验

　　随同试料做空白试验，制得空白试液，所用试剂应取自同一试剂瓶。

　　5 . 5 . 4 分析试液的制备

　　将试料(5 .5 .1)置于 150 mL 聚四氟乙烯烧杯中，加水润湿，加入 10 mL 硝酸溶液(5 .2 .2)及数滴过氧化氢(5.2.1) ,低温(90 ℃ ~99 ℃)加热至试样溶解完全。冷却至室温后移入 100 mL 容量瓶中，以水

　　稀释至刻度，混匀。

　　5 . 5 . 5 系列标准溶液的制备

　　5 .5 .5 . 1 分别移取 0 mL、1 .00 mL、5 .00 mL二氧化硅标准溶液(5 .2 .4 )于一组 100 mL 塑料容量瓶中，加入 10 mL硝酸溶液(5 .2 .2 ) ,以水稀释至刻度，混匀，配制成系列标准溶液。该系列标准溶液中二氧化硅的质量浓度分别为 0 μg/mL、1.00 μg/mL、5.00 μg/mL。用于测定空白试液。

　　5 . 5 . 5 . 2 分别移取 0 mL、1 . 00 mL、5 . 00 mL、10 . 00 mL、20 . 00 mL二氧化硅标准溶液(5 . 2 . 4 )于一组塑料100 mL容量瓶中，加入 10 mL 硝酸溶液(5. 2. 2) ,加入 10 mL 相应的稀土氧化物基体溶液( 5. 2. 5 ~ 5 . 2 . 19) , 以水稀释至刻度，混匀，配制成系列标准溶液。 该系列标准溶液中二氧化硅的质量浓度分别为

　　0 μg/mL、1.00 μg/mL、5.00 μg/mL、10.00 μg/mL、20.00 μg/mL。用于测定分析试液。

　　5 . 5 . 6 测定

　　将系列标准溶液(5 . 5 . 5)、空白试液及分析试液(5 . 5 . 4)依次于电感耦合等离子体原子发射光谱仪推荐分析线(见表 6)处测定硅的发射强度。 以系列标准溶液中二氧化硅的质量浓度为横坐标，硅的发射强度为纵坐标，绘制工作曲线。 仪器根据工作曲线自动进行数据处理，计算并输出空白试液及试料溶液中二氧化硅的质量浓度。

　　表 6 推荐分析线

　　单位为纳米

　　5 . 6 试验数据处理

　　硅的含量以质量分数 ∞2 计，按公式(2)计算：

　　GB/T 12690 . 7—202 1

　　式中：

　　∞2 — 硅的质量分数;

　　k — 换算系数，当计算二氧化硅的质量分数时 k=1,当计算硅的质量分数时 k=0.467 5 ;

　　ρ1 — 仪器输出的试料溶液中二氧化硅的质量浓度，单位为微克每毫升(μg/mL) ;

　　ρ2 — 仪器输出的空白试液中二氧化硅的质量浓度，单位为微克每毫升(μg/mL) ;

　　V2 — 试料溶液总体积，单位为毫升(mL) ;

　　m2 — 试料的质量，单位为克(g)。

　　计算结果保留 2 位有效数字。 数值修约按照 GB/T 8170 的规定执行。

　　5 . 7 精密度

　　5 . 7 . 1 重复性

　　在重复性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值不大于重复性限(r)，以大于重复性限的情况不超过 5%为前提，重复性限按表 7 数据采用线性内插法或外延法求得。

　　表 7 重复性限(方法 2)

　　5 . 7 . 2 再现性

　　在再现性条件下获得的两次独立测试结果的绝对差值不大于再现性限(R)，以大于再现性限的情

　　况不超过 5%为前提，再现性限按表 8 数据采用线性内插法或外延法求得。

　　表 8 再现性限(方法 2)