纳米压印技术 2012年版

纳米压印技术
作者：周伟民，张静，刘彥伯，张剑平 编著
出版时间：2012年版
内容简介
　　近年来，纳米压印技术迅猛发展，已引起业界广泛关注。《纳米压印技术》结合作者所在单位——纳米加工技术实验室的研究工作，基于近年来纳米压印的研究成果编写而成。纳米压印技术包括压印图形转移和后续的刻蚀结构转移过程。《纳米压印技术》首先简单介绍了纳米压印技术的研究现状；然后系统介绍了压印模板的制备和处理、压印用光刻胶、压印工艺和刻蚀工艺等，并着重阐述了纳米压印加工制造技术；此外，还介绍了纳米压印技术在半导体光电器件、半导体存储器件、生物技术和生命科学等领域的最新应用。《纳米压印技术》可供微纳加工、电子器件、生物芯片等领域的科研人员及工程技术人员参考，也可作为高等院校相关专业研究生和高年级本科生的教材或参考书。
目录
序
前言
第1章 绪论
　1.1 引言
　1.2 纳米压印技术
1.2.1 纳米压印技术的发展
1.2.2 纳米压印技术的分类
1.2.3 纳米压印技术的研究内容
　1.3 纳米压印关键性技术
1.3.1 模板
1.3.2 压印胶
1.3.3 压印过程缺陷
1.3.4　对准套刻工艺
1.3.5 三维结构压印
1.3.6　刻蚀结构转移
　1.4 纳米压印技术的研究现状和趋势
1.4.1 国内外文献分析
1.4.2 国内外专利分析
1.4.3 国外纳米压印设备介绍
　1.5 纳米压印技术的应用与前景
　1.6 本书的章节安排
参考文献
第2章　模板制备
　2.1 概述
　2.2 制备模板的材料
　2.3 制备模板的方法
2.3.1 电子束光刻
2.3.2　离子束光刻
2.3.3　极紫外光刻
2.3.4　X射线光刻
2.3.5　激光全息光刻
2.3.6 单层纳米球刻印术
2.3.7 边缘光刻
2.3.8　化学气相沉积
2.3.9　湿法刻蚀
2.3.10　嵌段聚合物组装模板
2.3.11 软模板复型
2.3.12 氧化法制多孔氧化铝模板
2.3.13 电铸法
2.3.14 原子力显微镜刻蚀
　2.4　模板检测的方法
2.4.1 扫描电子显微镜
2.4.2　原子力显微镜
2.4.3 小角度X射线散射
2.4.4　光学显微镜
2.4.5　模板结构的评价
　2.5 有关模板的关键性技术问题
　2.6 本章小结
　　参考文献
第3章 纳米压印光刻胶
　3.1 概述
　3.2 光刻胶材料的选择标准
3.2.1 成膜性能
3.2.2　压印性能
3.2.3　抗刻蚀性能
3.3 不同种类压印光刻胶
3.3.1 热压印光刻胶
3.3.2 紫外压印光刻胶
3.3.3 步进压印光刻胶
3.3.4 滚动式压印光刻胶
3.3.5　微接触印刷
　3.4 本章小结
参考文献
第4章 纳米压印工艺
4.1 概述
　……
第5章　刻蚀
第6章　纳米压印技术在发光二极管上的应用
第7章　纳米压印工艺在制作相变存储器件的应用
第8章　纳米压印技术在其他领域的应用