本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。 上一篇: GB/T 6619-2009 硅片弯曲度测试方法 下一篇: GB/T 5019.8-2009 以云母为基的绝缘材料 第8部分:玻璃布补强B阶环氧树脂粘合云母带