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GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
- 英文名称:Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
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- 提 取 码:n8s3
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资料介绍
本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。
本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。
本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。
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