纳米集成电路制造工艺作者:张汝京 编著出版时间:2014年版内容简介 《纳米集成电路制造工艺》共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等项目和课题。国内从事半导体产业... 上一篇:激光辐射及应用下一篇:光信息大气传输理论与检测技术